Berdasarkan kebimbangan anda sebelum ini tentang perbezaan suhu dalam membersihkan pelari panas yang diperbuat daripada bahan berbeza dan larangan pembersihan ultrasonik pelari panas, terdapat perbezaan yang ketara dalam masa pembersihan yang diperlukan untuk pelari panas yang diperbuat daripada bahan berbeza. Perbezaan teras adalah seperti berikut:
I. Pelari Panas Seramik: Masa pembersihan yang disyorkan ialah 15-25 minit. Ini membolehkan bahan seramik mengekalkan struktur yang stabil pada suhu tinggi dan, dengan bantuan bahan pembersih khusus, mengalihkan sebarang sisa dalam pelari dengan teliti.
Tidak perlu memanjangkan masa pembersihan secara berlebihan, kerana lekatan bahan sisa yang berpanjangan pada suhu tinggi boleh meningkatkan kesukaran pembersihan berikutnya.
II. Carbide Hot Runners: Masa pembersihan yang disyorkan ialah 10-20 minit. Kelicinan permukaan karbida yang tinggi menyukarkan bahan untuk melekat pada dinding, membolehkan penggantian menyeluruh dalam masa yang singkat.
Untuk pembentukan karbon yang degil, masa pembersihan boleh dilanjutkan selama 5-10 minit tanpa merosakkan karbida itu sendiri.
III. Pelari Panas Keluli Biasa: Masa pembersihan yang disyorkan ialah 5-15 minit. Permukaan keluli terdedah kepada mikropori, dan pembersihan suhu tinggi yang berpanjangan boleh membenarkan bahan sisa untuk menembusi ke dalam liang ini.
Masa pembersihan perlu dikawal untuk mengelakkan bahan berkarbonat daripada melekat pada liang dan meningkatkan kesukaran perubahan warna seterusnya.
IV. Pelari panas dengan salutan khas: Masa pembersihan yang disyorkan ialah 3-10 minit. Permukaan salutan mempunyai sifat anti-lekatan yang kuat, membolehkan pembersihan dan penggantian cepat.
Pembersihan rendaman suhu tinggi-berpanjangan adalah dilarang sama sekali untuk mengelakkan salutan mengelupas dan kegagalan.
Prinsip teras untuk masa pembersihan berbeza-beza bergantung pada bahan: "ganti sepenuhnya sisa tanpa merosakkan struktur substrat." Pelarasan sedikit boleh dibuat pada masa asas berdasarkan tahap pencemaran sebenar.
